图形图案专利怎么申请
精合集成已申请掩模板及其图案校正方法专利，可准确实现减半...申请日期为2023年12月。 专利摘要显示，本发明公开了一种掩膜板及其图形校正方法。该掩膜板用于半导体结构的曝光步骤。该掩膜板至少包括：多个绘图板。该绘图板包括掩蔽区和光刻区。掩蔽区和光刻区分别为： 光刻区域相连，多个光刻区域的图案拼接形成掩膜版的光刻图案。本次曝光使用的图案是两个...
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中图技术应用于桥链图形基板专利解决桥链图形化基板制备困难的问题...申请日期为2024年4月。 专利摘要表明，本发明实施例公开了一种桥式图形化学基材和桥链式图形化学衬里的制备方法。 结尾。 制备方法在平坦的基板上制备初始掩模图案和相互独立的掩模图案，并使用掩模图案来进行主要工作。 有抓取和过蚀刻两个步骤。在主蚀刻中，首先产生初始微结构，然后使用三氟甲烷...
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宝龙科技获得一项发明专利授权："一种标定图案、一种标定方法及其标定板...一项新发明专利获得授权，该专利名称为"一种标定图案、一种标定方法及其标定板装置"，专利申请号为CN2020105672 68.9，授权日期为2024年5月28日。专利摘要：本发明涉及一种校准图案、校准方法和校准板装置。该校准图案适用于相机的校准，并且在第一图形中包括第一图形...
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长鑫存储器创新光刻技术，显着提高良率的创新专利于2019年12月开始申请。 该专利聚焦光掩模及其制造方法，有效解决了光刻工艺中图案边界模糊、图案边界不准确的问题，显着提高了光刻工艺的生产加工良率。 光掩模包括基板、相移层、第一遮光层以及第二遮光层，其中第一遮光层沿图案区域的边缘设置，且透光率低于预设值。 和讯自选股票写...
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